چگونه نازل اسپری اولتراسونیک فتورزیست را پوشش می دهد؟

فناوری پوشش اسپری اولتراسونیک فناوری جدیدی است که در حال حاضر نقش بسزایی در صنایع مختلف ایفا می کند. تعداد بیشتری از مشتریان اکنون نازل اولتراسونیک را برای پوشش انتخاب می کنند. در مقایسه با پاشش دو{2}سیال سنتی، اسپری اولتراسونیک مزایای قابل توجهی در کیفیت پوشش، استفاده از مواد و سازگاری با فرآیند ارائه می دهد.

 

شرکت ما خدمات تست نمونه رایگان را ارائه می دهد و تعداد فزاینده ای از مشتریان نمونه هایی را برای ما ارسال می کنند. تجهیزات ما نظرات مثبت و شناخت مشتریان ما را دریافت کرده است.

 

امروز، ما در مورد اسپری مقاوم به نور اولتراسونیک، یک نوع نسبتاً متداول از پاشش مواد صحبت خواهیم کرد.

 

Photoresist یک ماده لایه نازک است که به نور یا تشعشع حساس است و در درجه اول برای الگوهای ظریف در زمینه هایی مانند مدارهای مجتمع و پانل های نمایش استفاده می شود. این به عنوان یک پوشش مقاوم در برابر اچ در فرآیند فوتولیتوگرافی عمل می کند. حلالیت آن با قرار گرفتن در معرض نور تغییر می کند و الگوی مدار مورد نظر را تشکیل می دهد. فتورزیست ها به دو دسته مثبت- (نواحی در معرض انحلال) و منفی- (نواحی بدون نور حل می شوند) طبقه بندی می شوند. بسته به منبع نور قرار گرفتن در معرض، آنها را به UV، UV عمیق، UV شدید، و اشعه الکترونی مقاوم طبقه بندی می کنند.

هسته اصلی فناوری پاشش اتمیزاسیون فوتورزیست اولتراسونیک استفاده از انرژی ارتعاش اولتراسونیک برای دستیابی به اتمیزه شدن کارآمد و یکنواخت فوتوریست است. سپس کنترل دقیق جریان هوا، قطرات اتمیزه شده را به سطح زیرلایه می رساند و پوششی با کیفیت- تشکیل می دهد. فرآیند را می توان به سه مرحله اصلی تقسیم کرد:

 

 

1. اتمیزه شدن مقاوم به نور: ارتعاش با فرکانس بالا، کشش سطحی مایع را از بین می‌برد.

جزء اصلی فناوری پاشش اولتراسونیک، نازل اتمیزه کننده اولتراسونیک است که یک ویبراتور سرامیکی پیزوالکتریک را در خود جای داده است. هنگامی که یک سیگنال الکتریکی با فرکانس بالا به ویبراتور اعمال می شود، ارتعاشات مکانیکی در همان فرکانس ایجاد می کند و انرژی ارتعاشی را به سطح اتمیزه کننده نازل منتقل می کند. پس از اینکه فتوریست از طریق سیستم تامین مایع به سطح اتمیزه کننده تحویل داده شد، ارتعاشات با فرکانس بالا به سرعت کشش سطحی مایع را می شکنند و قطرات میکرونی با قطر یکنواخت (معمولاً 5μm-50μm) را تشکیل می دهند.

در مقایسه با اتمیزه کردن فشار سنتی (که به جریان هوا با فشار بالا برای تجزیه مایع متکی است)، اتمیزه کردن اولتراسونیک نیاز به تداخل جریان هوا با فشار بالا را از بین می‌برد و در نتیجه توزیع اندازه قطرات یکنواخت‌تر (در محدوده %10) ایجاد می‌شود. همچنین از پاشیدن قطرات یا مزاحمت سطح زیرلایه به دلیل ضربه جریان هوا جلوگیری می کند.

 

2. کنترل دقیق مسیر انتقال

شرکت ما دارای مهندسین برنامه نویسی حرفه ای است که می توانند به طور مستقل مسیر اسپری اتمیزاسیون را برنامه ریزی کنند. ما همچنین می توانیم مسیرهای اسپری مختلف را با توجه به نیاز مشتری سفارشی کنیم. ما تجربه بالغی در ساخت ماشین آلات کامل داریم. برای هر دستگاه، آن را برای مشتری برنامه ریزی می کنیم. روی صفحه، مشتری مسیر واقعی-پاشش زمان را می‌بیند. علاوه بر انتخاب مسیر، ما همچنین باید سرعت جریان هوا را تنظیم کنیم (برای کنترل فاصله انتقال، معمولاً 5-50 میلی‌متر) و موقعیت نسبی نازل و زیرلایه (با استفاده از بازوی روباتیک یا مرحله ترجمه برای موقعیت‌یابی سه‌بعدی)، ما اطمینان حاصل می‌کنیم که ذرات اتمیزه‌شده به صورت عمودی و یکنواخت به سطح زیرلایه می‌رسند، و از ضخامت هم‌جریان ناشی از تورم هوا جلوگیری می‌کنیم.

3. تشکیل فیلم پوشش: عمل آوری در دمای پایین- یکپارچگی ساختار را تضمین می کند

پس از اینکه قطرات اتمیزه شده روی سطح زیرلایه رسوب کردند، تحت یک فرآیند پخت{0}در دمای پایین (معمولاً 60 درجه -120 درجه، بسیار پایین‌تر از دمای بالا-درجه حرارت بالا پوشش دهی چرخشی سنتی) قرار می‌گیرند تا یک لایه تشکیل دهند. عمل آوری در دمای پایین نه تنها از تغییر شکل بستر یا تخریب مواد ناشی از دماهای بالا جلوگیری می کند، بلکه تجمع تنش را در مقاومت نوری کاهش می دهد، چسبندگی و یکپارچگی ساختاری پوشش را بهبود می بخشد و پایه خوبی برای فرآیندهای فوتولیتوگرافی بعدی ایجاد می کند.